[实用新型]一种硅芯清洗用主副槽装置

权利要求书

1.一种硅芯清洗用主副槽装置，包括主槽（1）和副槽（2），其特征在于：所述的主槽和副槽上下设置，中间通过隔板（8）隔开，所述的主槽槽体上部设有第一溢流槽盒（3），主槽槽体侧壁设有与第一溢流槽盒相通的溢流孔（33），第一溢流槽盒下方设有一第二溢流槽盒（4），第一溢流槽盒底板上设有与第二溢流槽连通的溢流孔（31），第二溢流槽底部设在所述的隔板上，并通过溢流口（41）与副槽连通，所述的副槽设有废水排放口（22）。

2.如权利要求1所述的硅芯清洗用主副槽装置，其特征在于：所述的第一溢流槽盒（3）上部设有一上盖（34），其上设有溢流口（35），所述上盖与第一溢流槽盒的侧壁形成一高于主槽槽体的溢流池（9）。

3.如权利要求1所述的硅芯清洗用主副槽装置，其特征在于：所述的第一溢流槽盒（3）端壁上设有酸槽抽风口（32）。

4.如权利要求1所述的硅芯清洗用主副槽装置，其特征在于：所述副槽（2）的端壁上部设有混酸排放口（21）。