[实用新型]一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力测试的实验装置有效

专利信息
申请号: 201220431433.9 申请日: 2012-08-28
公开(公告)号: CN202903388U 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 秦飞;武伟;安彤;夏国峰;刘程艳;于大全;万里兮 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: G01L1/00 分类号: G01L1/00;G01N33/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 魏聿珠
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力测试的实验装置,属于电子信息技术领域。实验装置主要由压头,实验试样,试样载台和铂金电加热片四部分组成。所述的试样载台上开有一个通孔,且直径要比试样中Cu孔的直径要大。试样载台位于最下部,实验试样在试样载台上,并且实验试样中硅通孔同试样载台中的通孔对中。铂金电加热片共四片,位于实验试样上表面硅通孔的四周。本实用新型的装置进行测试时能够最大程度保持试样的完整性,不对试样进行切割等影响原结构形貌导致残余应力释放等的操作,使得测试结果更加精确,同时残余应力的计算方法简单可靠,可以直观的判断残余应力的正负。
搜索关键词: 一种 用于 硅通孔 tsv cu 结构 工艺 残余 应力 测试 实验 装置
【主权项】:
一种用于“硅通孔”TSV‑Cu结构工艺残余应力测试的实验装置,其特征在于:实验装置主要包括压头(1),实验试样(2),试样载台(3),铂金电加热片(4)四部分;所述的试样载台(3)上开有一个通孔,且直径要比试样(2)中硅通孔的直径要大;试样载台(3)在最下方,实验试样(2)放置在试样载台(3)上并将实验试样(2)中的铜柱同试样载台(3)中的孔洞对中,铂金电加热片(4)共四面位于实验试样(2)中上表面硅通孔的四周;压头(1)位于实验试样(2)中硅通孔的正上方,从上往下对实验试样(2)中的铜柱进行挤压。
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