[实用新型]一种集群磁流变-化学机械复合抛光装置

摘要

本实用新型是一种集群磁流变-化学机械复合抛光装置。包括机架、工件安装旋转装置、抛光装置和循环装置，工件安装旋转装置包括晶片贴盘、电主轴、夹具、Z向驱动装置，电主轴与Z向驱动装置连接，并与机架的垂直导轨匹配，晶片贴盘通过夹具安装在电主轴的下端，抛光装置包括X向运动平台、Y向运动平台、抛光盘，Y向运动平台安装在机架上，X向运动平台安装在Y向运动平台上，抛光盘安装在X向运动平台上，抛光盘与抛光盘驱动装置连接，循环装置中的电泵抽取抛光液通过循环管输送至抛光盘的工作面。本实用新型将集群磁流变抛光的高效率、柔性化、可控性与化学机械抛光的低损伤、低表面粗糙度等特性相结合，对晶片表面进行高效低损伤抛光。

主权项

一种集群磁流变‑化学机械复合抛光装置，其特征在于包括有机架（1）、工件安装旋转装置、抛光装置和循环装置，其中工件安装旋转装置包括有晶片贴盘（10）、电主轴（11）、夹具（12）、Z向驱动装置，其中电主轴（11）与Z向驱动装置连接，并与机架（1）的垂直导轨匹配，晶片贴盘（10）通过夹具（12）安装在电主轴（11）的下端，抛光装置包括有X向运动平台（4）、Y向运动平台（2）、抛光盘（8），其中Y向运动平台（2）直接安装在机架（1）上，X向运动平台（4）安装在Y向运动平台（2）上，X向运动平台（4）与X向驱动装置连接，Y向运动平台（2）与Y向驱动装置连接，抛光盘（8）安装在X向运动平台（4）上，且抛光盘（8）与抛光盘驱动装置连接，循环装置包括有回收槽（15）、pH测试仪（18）、循环管（19）、电泵（20）和温控回收桶（21），其中装有pH测试仪（18）的回收槽（15）位于抛光盘（8）的下方，电泵（20）抽取抛光液（19）通过循环管（19）输送至抛光盘（8）的工作面，且抛光液（17）再通过循环管（19）直接流回温控回收桶（21）中。