[实用新型]一种真空容器内纳米光栅沉积基片位置操控装置

摘要

本实用新型公开了一种真空容器内纳米光栅沉积基片位置操控装置，包含电磁击打器、位移发生器、标准位移物件收集器、传动机构和基片位移部件,电磁击打器和标准位移物件收集器分别置于位移发生器的槽管通孔两侧,位移发生器上的位移牵引器伸出槽管外部分通过传动机构与基片位移部件上的基片位移架或者配重平衡块连接,基片位移架和配重平衡块通过钢丝软线、滑轮相互连接。本装置可以简单、方便、快捷的实现沉积基片的位置调整,能够避免真空容器内电磁干扰、电子元器件气体释放及爆炸等对纳米光栅沉积基片研究的影响,具有较强的实际应用价值。

主权项

一种真空容器内纳米光栅沉积基片位置操控装置, 包括真空容器外的控制装置，其特征在于：包含电磁击打器（1）、位移发生器（2）、标准位移物件收集器（3）、传动机构和基片位移部件（5），电磁击打器（1）和标准位移物件收集器（3）分别置于位移发生器（2）的槽管通孔两侧，位移发生器（2）上的位移牵引器（202）伸出槽管外部分通过传动机构与基片位移部件（5）上的基片位移架（501）或者配重平衡块（502）连接，基片位移架（501）和配重平衡块（502）通过钢丝软线（4）、滑轮（503）相互连接。