[实用新型]一种集成成像拍摄端和显示端及其光学阵列薄膜有效
| 申请号： | 201220345561.1 | 申请日： | 2012-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN202720396U | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 张泓 | 申请（专利权）人： | TCL集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/22 | 分类号： | G02B27/22;G02B1/10;G02B3/00;H04N13/00;G09F9/00 |
| 代理公司： | 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 | 代理人： | 刘文求;杨宏 |
| 地址： | 516001 广东省惠州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种集成成像拍摄端和显示端及其光学阵列薄膜，该光学阵列薄膜包括基板和微透镜，所述基板用于设置在集成成像设备的前端，所述微透镜设置在所述基板一侧的表面并形成阵列式紧密排布，所述微透镜呈刻蚀法所用的光刻胶形状，其中，所述微透镜之间的基板区域设置有阻光层。由于在基板背面对应各微透镜之间的区域设置阻光层的技术手段，使得图像信号只能从相应的微透镜中通过，避免了相邻微透镜之间的信号相互产生串扰，由此改善了拍摄时和/或显示时产生的立体显示串扰问题，有效地提高了立体显示的图像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 集成 成像 拍摄 显示 及其 光学 阵列 薄膜 | ||
【主权项】：
一种光学阵列薄膜，包括基板和微透镜，所述基板用于设置在集成成像设备的前端，所述微透镜设置在所述基板一侧的表面并形成阵列式紧密排布，所述微透镜呈刻蚀法所用的光刻胶形状，其特征在于，所述微透镜之间的基板区域设置有阻光层。
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