[实用新型]一种集成成像拍摄端和显示端及其光学阵列薄膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及集成成像的拍摄设备和显示设备领域，尤其涉及的是一种可有效改善真三维立体显示串扰问题进而提高立体显示图像质量的光学阵列薄膜。

背景技术

集成成像最早由诺贝尔奖获得者Gabriel Lippmann提出，对于集成成像拍摄端而言，可将光学阵列薄膜放置在CCD摄像头的前端，即在CCD摄像头与物体之间设置光学阵列薄膜，而对于集成成像显示端来说，可将光学阵列薄膜放置在二维显示屏的前端，即在二维显示屏与观看者之间设置光学阵列薄膜，由此通过三维空间光线传播方向重建的方式实现三维物体光场的重建，即真三维光学显示。

由于集成成像技术再现的3D图像包含全真色彩以及连续的视差信息，观看者可获得观看真实景物的感觉，可以克服视觉疲劳，同时实现超薄、自由视角等优点。并且与当前的平板显示技术具有较好的兼容性，将成为未来主流的大屏幕、可壁挂真三维立体显示技术之一。

但是，采用传统光学阵列薄膜的拍摄端拍摄出的图像在显示时存在立体显示的串扰问题，而采用传统光学阵列薄膜的显示端显示出的图像也存在立体显示的串扰问题，均降低了立体显示的图像质量。

因此，现有技术尚有待改进和发展。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种光学阵列薄膜，可改善立体显示的串扰问题，提高立体显示的图像质量。

同时，本实用新型还提出一种集成成像拍摄端，可改善拍摄时产生的立体显示串扰问题。

以及，本实用新型还提出一种集成成像显示端，可改善显示时产生的立体显示串扰问题。

本实用新型的技术方案如下：一种光学阵列薄膜，包括基板和微透镜，所述基板用于设置在集成成像设备的前端，所述微透镜设置在所述基板一侧的表面并形成阵列式紧密排布，所述微透镜呈刻蚀法所用的光刻胶形状，其中，所述微透镜之间的基板区域设置有阻光层。

所述的光学阵列薄膜，其中：所述阻光层设置在所述基板的背面。

所述的光学阵列薄膜，其中：所述阻光层设置为磨砂层，所述磨砂层通过喷砂法设置在该基板的表面上，并与所述基板正面各微透镜之间的区域相对应。

所述的光学阵列薄膜，其中：所述阻光层设置为金属层，所述金属层通过蒸镀法设置在该基板的表面上，并与所述基板正面各微透镜之间的区域相对应。

所述的光学阵列薄膜，其中：所述金属层设置为铬金属层或铝金属层。

所述的光学阵列薄膜，其中：所述基板设置为玻璃薄膜、硅薄膜或石英薄膜。

一种集成成像拍摄端，包括设置在拍摄端前端的光学阵列薄膜，其中：所述光学阵列薄膜设置为上述任一项所述的光学阵列薄膜。

所述的集成成像拍摄端，其中：所述拍摄端设置为CCD摄像头。

一种集成成像显示端，包括设置在显示端前端的光学阵列薄膜，其中：所述光学阵列薄膜设置为上述任一项所述的光学阵列薄膜。

所述的集成成像显示端，其中：所述显示端设置为LCD平板显示器、LED平板显示器或OLED平板显示器。

本实用新型所提供的一种集成成像拍摄端和显示端及其光学阵列薄膜，由于在基板背面对应各微透镜之间的区域设置阻光层的技术手段，使得图像信号只能从相应的微透镜中通过，避免了相邻微透镜之间的信号相互产生串扰，由此改善了拍摄时和/或显示时产生的立体显示串扰问题，有效地提高了立体显示的图像质量。

附图说明

图1是本实用新型集成成像显示端的立体结构示意图。

图2是本实用新型光学阵列薄膜上的微透镜制作方法流程示意图。

图3是本实用新型光学阵列薄膜实施例一制作阻光层方法的流程图。

图4是本实用新型光学阵列薄膜实施例一的结构平面示意图。

图5是本实用新型光学阵列薄膜图4的T-T剖面示意图。

图6是实用新型光学阵列薄膜图4的S-S剖面示意图。

图7是本实用新型光学阵列薄膜实施例二制作阻光层方法的流程图。

图8是本实用新型光学阵列薄膜实施例二的结构平面示意图。

图9是本实用新型光学阵列薄膜图8的V-V剖面示意图。

图10是实用新型光学阵列薄膜图8的W-W剖面示意图。

具体实施方式

以下将结合附图，对本实用新型的具体实施方式和实施例加以详细说明，所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的具体实施方式。