[实用新型]一种具有吸收冲击装置的真空灭弧室新型触头座有效

专利信息
申请号: 201220338111.X 申请日: 2012-07-12
公开(公告)号: CN202650967U 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 唐杰;陈志会;周静 申请(专利权)人: 中国振华电子集团宇光电工有限公司(国营第七七一厂)
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 代理人: 王娟;郭防
地址: 550018 贵*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 实用新型公开了一种具有吸收冲击装置的真空灭弧室新型触头座,其特征在于:包括加触头座(1),触头座碗型底端开有2个或2个以上的定位槽(2),定位槽(2)下方开有圆周型的弹跳槽(3),加强筋(4)外侧设有和定位槽(2)个数相同位置对应的定位销(5),加强筋(4)通过定位销(5)和弹跳槽(3)的配合固定在触头座(1)上。本实用新型触头座与加强筋的配合为非固定结构,在合闸时定位销在弹跳槽内会产生弹跳,从而减小动触头与静触头之间的弹跳,使得真空灭弧室使用寿命变长,提高产品的使用效果。
搜索关键词: 一种 具有 吸收 冲击 装置 真空 灭弧室 新型 头座
【主权项】:
一种具有吸收冲击装置的真空灭弧室新型触头座,其特征在于:包括触头座(1),触头座底端开有2个或2个以上的定位槽(2),定位槽(2)下方开有圆周型的弹跳槽(3),加强筋(4)外侧设有和定位槽(2)个数相同位置对应的定位销(5),加强筋(4)通过定位销(5)和弹跳槽(3)的配合固定在触头座(1)上。
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