[实用新型]一种具有吸收冲击装置的真空灭弧室新型触头座有效
| 申请号： | 201220338111.X | 申请日： | 2012-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN202650967U | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 唐杰;陈志会;周静 | 申请（专利权）人： | 中国振华电子集团宇光电工有限公司（国营第七七一厂） |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 王娟;郭防 |
| 地址： | 550018 贵*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 吸收 冲击 装置 真空 灭弧室 新型 头座 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有吸收冲击装置的真空灭弧室新型触头座，其特征在于：包括触头座（1），触头座底端开有2个或2个以上的定位槽（2），定位槽（2）下方开有圆周型的弹跳槽（3），加强筋（4）外侧设有和定位槽（2）个数相同位置对应的定位销（5），加强筋（4）通过定位销（5）和弹跳槽（3）的配合固定在触头座（1）上。
2.根据权利要求1所述的具有吸收冲击装置的真空灭弧室新型触头座，其特征在于：所述加强筋（4）下方与触头组件（6）连接。
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