[实用新型]等离子体刻蚀设备有效
| 申请号： | 201220224678.4 | 申请日： | 2012-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN202633210U | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 王晶;李谦 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种等离子体刻蚀设备，包括：腔体，腔体内限定有反应腔，腔体的底部的周边具有与反应腔连通的多个抽气孔；用于向所述反应腔提供反应气体的供气系统，所述供气系统包括气体扩散件，所述气体扩散件的底面相对于其中心轴线呈倾斜角度，且所述倾斜角度为锐角，所述底面形成有多个出气孔。根据本实用新型的等离子体刻蚀设备，气体扩散件具有出气孔的底面相对于其中心轴线呈锐角，气体扩散件上分布的出气孔沿着与中心轴线向外的高度逐渐降低，由此，在出气孔向反应腔内注入气体且同时出气孔向外排出气体时，可以使反应腔内气体分布的更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
一种等离子体刻蚀设备，其特征在于，包括：腔体，所述腔体内限定有反应腔，所述腔体的底部的周边具有与所述反应腔连通的多个抽气孔；静电卡盘，所述静电卡盘设在所述反应腔的底部；以及用于向所述反应腔提供反应气体的供气系统，所述供气系统包括气体扩散件，所述气体扩散件的底面相对于其中心轴线呈倾斜角度，且所述倾斜角度为锐角，所述底面形成有多个出气孔。
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