[实用新型]一种用于等离子体处理装置的聚焦环有效
| 申请号： | 201220027711.4 | 申请日： | 2012-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN202405228U | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 凯文·佩尔斯 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种应用于等离子体处理装置的聚焦环，所述聚焦环设置于载片台上，包围位于所述载片台上的基片，其中，所述聚焦环的上表面上有若干个突起，所述突起在竖直方向上的高度至少高于所述基片的下表面。本实用新型提供的聚焦环能够有效防止基片滑出载置台，并且造价低功耗小，使用方便有效，与机台的兼容性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 等离子体 处理 装置 聚焦 | ||
【主权项】：
一种应用于等离子体处理装置的聚焦环，所述聚焦环设置于载片台上，包围位于所述载片台上的基片，其特征在于，所述聚焦环的上表面上有若干个突起，所述突起在竖直方向上的高度至少高于所述基片的下表面。
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