[实用新型]多波长无掩膜曝光装置

摘要

本实用新型公开了一种多波长无掩膜曝光装置，包括有光源一、图形发生器、多个不同波长的光源分别为光源二、三、四，光源二、三、四中每个光源对应设有一个分色分光镜，分色分光镜依次置于光源一发射的光束到图形发生器之间的光路上，分色分光镜与图形发生器之间还设有光束均匀装置；位于图形发生器的下方设有成像镜头，位于成像镜头的下方设有曝光基底，各光源发射的不同波长的光束经光束均匀装置后均匀照射到图形发生器上，图形发生器产生的图案经成像镜头按照一定的倍率处理后成像在曝光基底上。本实用新型使用可任意编程的图形发生器和不同波长的光源，避免了传统有掩膜的接触或接近式曝光装置对掩膜或菲林的依赖以及只能使用单一的曝光基底，具有很强的实用性和灵活性。

主权项

一种多波长无掩膜曝光装置，包括有光源一、图形发生器，其特征在于：还包括有多个不同波长的光源，分别为光源二、三、四，所述光源二、三、四中每个光源对应设有一个分色分光镜，所述分色分光镜依次置于光源一发射的光束到图形发生器之间的光路上，所述分色分光镜与图形发生器之间还设有光束均匀装置；位于图形发生器的下方设有成像镜头，位于成像镜头的下方设有曝光基底，各光源发射的不同波长的光束经光束均匀装置后均匀照射到图形发生器件上，图形发生器产生的图案经成像镜头按照一定的倍率处理后成像在曝光基底上。