[实用新型]多波长无掩膜曝光装置有效

专利信息
申请号: 201220013645.5 申请日: 2012-01-13
公开(公告)号: CN202486497U 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 张昌清;李文静;何少峰;刘文海 申请(专利权)人: 合肥芯硕半导体有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/10
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 方峥
地址: 230601 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 波长 无掩膜 曝光 装置
【权利要求书】:

1.一种多波长无掩膜曝光装置,包括有光源一、图形发生器,其特征在于:还包括有多个不同波长的光源,分别为光源二、三、四,所述光源二、三、四中每个光源对应设有一个分色分光镜,所述分色分光镜依次置于光源一发射的光束到图形发生器之间的光路上,所述分色分光镜与图形发生器之间还设有光束均匀装置;位于图形发生器的下方设有成像镜头,位于成像镜头的下方设有曝光基底,各光源发射的不同波长的光束经光束均匀装置后均匀照射到图形发生器件上,图形发生器产生的图案经成像镜头按照一定的倍率处理后成像在曝光基底上。

2.根据权利要求1所述的多波长无掩膜曝光装置,其特征在于:所述光源一、二、三、四可以是激光光源、汞灯或LED,波长分布在红外光、绿光、蓝紫光波段,即在1064nm、532nm、405nm、355nm附近。

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