[发明专利]晶体硅太阳能电池镀膜方法有效
申请号: | 201210576190.2 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN103022256A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 胡党平;陆俊宇;吴飞翔;魏青竹;保罗 | 申请(专利权)人: | 中利腾晖光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C23C14/40 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215542 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种晶体硅太阳能电池镀膜方法,其包括以下步骤:首先,将硅片放入石英舟内,进行进舟。之后,通入氮气升温至380-450℃,维持5-15分钟。然后,通入氨气并开启射频进行预清洗,维持5-8分钟。接着,通入氨气与硅烷,开启射频进行等离子溅射沉积12-14分钟。最后,出舟冷却。有此,能够提升太阳能电池的光电转换效率。同时,去掉预清洗步骤后,能够针对现有的加工步骤缩短生产时间,提升生产产能。由于缩短了不必要的步骤,节省氨气使用量,降低生产成本。再者,本发明所采用的方法,整体步骤简便,且无需增加额外工序步骤和物料,节省了生产成本且有利于推广。 | ||
搜索关键词: | 晶体 太阳能电池 镀膜 方法 | ||
【主权项】:
晶体硅太阳能电池镀膜方法,其特征在于包括以下步骤:步骤①,将硅片放入石英舟内,进行进舟;步骤②,通入氮气升温至380‑450℃,维持5‑15分钟;步骤③,通入氨气并开启射频进行预清洗,维持5‑8分钟;步骤④,通入氨气与硅烷,开启射频进行等离子溅射沉积12‑14分钟;步骤⑤,出舟;步骤⑥,冷却。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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