[发明专利]应用石墨烯的结构及其制造方法无效
| 申请号： | 201210552932.8 | 申请日： | 2012-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN103871684A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 汉述仁;曹庆 | 申请（专利权）人： | HCGT有限公司 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/00 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 许志勇 |
| 地址： | 美国纽约州*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种应用石墨烯的结构及其制造方法，其中该方法包括：形成一石墨烯层于一金属层的一面；形成一保护层于该石墨烯层相对于该金属层的另一面，使该石墨烯层的位置介于该金属层与该保护层之间；将该保护层、该石墨烯层与该金属层设置于一基板的一面；自该石墨烯层移除该金属层；及形成一导电层于该石墨烯层相对于该保护层的一面。因此，本发明应用石墨烯的装置不仅能在转移时保护石墨烯不受到损坏，更可以藉由保护层的设置使该装置能够在滚动条式制程中承受来自滚轮的压力，以提升生产的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 应用 石墨 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种应用石墨烯的制造方法，其特征在于，包括步骤：形成一石墨烯层于一金属层的一面；形成一保护层于该石墨烯层相对于该金属层的另一面，使该石墨烯层的位置介于该金属层与该保护层之间；将该保护层、该石墨烯层与该金属层设置于一基板的一面；自该石墨烯层移除该金属层；及形成一导电层于该石墨烯层相对于该保护层的一面。
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