[发明专利]第III族氮化物半导体发光器件有效

专利信息
申请号: 201210541310.5 申请日: 2012-12-13
公开(公告)号: CN103165802A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 水谷浩一;稻泽良平;池本由平;多井中伴之 申请(专利权)人: 丰田合成株式会社
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;全万志
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供第III族氮化物半导体发光器件。所述发光器件具有:包括由第III族氮化物半导体形成的p型层、发光层以及n型层的半导体层;以及在n型层上的n型电极。所述器件还具有:沿着半导体层的外周延伸并且将半导体层设置有台面形状的器件隔离沟槽;以及连续地设置在第一区域至第三区域上的绝缘膜,第一区域是n型层的外周区域,第二区域是沟槽的侧表面,以及第三区域是器件隔离沟槽的底表面。n型电极包括导线线状部和两个焊垫部。外周导线线状部形成为完全符合所述器件的外周的框。外周导线线状部的一部分设置在n型层上,其剩余部分设置在绝缘膜的第一区域上。
搜索关键词: iii 氮化物 半导体 发光 器件
【主权项】:
一种第III族氮化物半导体发光器件,包括:导电支承体;设置在所述支承体上的p型电极;设置在所述p型电极上的半导体层,所述半导体层至少包括从所述p型电极起按以下顺序设置的p型层、发光层以及n型层,所述三层中的每一层均由第III族氮化物半导体形成;以及设置在所述n型层上的n型电极,其中所述器件具有器件隔离沟槽,所述器件隔离沟槽沿着所述半导体层的外周形成并且为所述半导体层提供台面形状;以及连续地设置在第一区域至第三区域上的绝缘膜,所述第一区域为所述n型层的外周区域,所述第二区域为所述沟槽的侧表面,以及所述第三区域为所述器件隔离沟槽的底表面;以及所述n型电极具有:待连接接合线的焊垫部;接触部,所述接触部设置在距所述焊垫部一定距离处并且部分地或完全地设置在所述n型层上;以及外周导线线状部,所述外周导线线状部沿外周延伸,从而将所述焊垫部与所述接触部相连接,并且所述外周导线线状部完全设置在所述绝缘膜上,或者所述外周导线线状部部分地设置在所述绝缘膜上,其剩余部分设置在所述n型层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于丰田合成株式会社,未经丰田合成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210541310.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top