[发明专利]抗清洁剂分散元件,物体支架,以及干式清洗设备有效
申请号: | 201210520737.7 | 申请日: | 2012-10-26 |
公开(公告)号: | CN103071644A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 渕上明弘;冈本洋一;种子田裕介;塚原兴治;村田省藏 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | B08B5/00 | 分类号: | B08B5/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了一种用于干式清洗设备的抗清洁剂分散元件,该干式清洗设备通过气流分散清洁剂以允许该清洁剂与物体碰撞以进行清洗。该抗清洁剂分散元件设置在该物体的支架的一侧上,与清洁剂发生碰撞的一侧相反。该抗清洁剂分散元件构造成根据该物体的外形通过其自身重量或压力而变形,以紧紧的无间隙的附着在该物体上并防止该清洁剂移动到该支架的相反侧。 | ||
搜索关键词: | 抗清 分散 元件 物体 支架 以及 清洗 设备 | ||
【主权项】:
一种用于干式清洗设备的抗清洁剂分散元件,其通过气流分散清洁剂,以允许该清洁剂与物体碰撞以进行清洗,其中:该抗清洁剂分散元件设置在该物体的支架的一侧上,该侧与清洁剂发生碰撞的一侧相反;以及该抗清洁剂分散元件被构造成根据该物体的外形通过其自身重量或压力而变形,以紧紧地无间隙地附着在该物体上并防止该清洁剂移动到该支架的相反侧。
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