[发明专利]抗清洁剂分散元件，物体支架，以及干式清洗设备

权利要求书

1.一种用于干式清洗设备的抗清洁剂分散元件，其通过气流分散清洁剂，以允许该清洁剂与物体碰撞以进行清洗，其中：

该抗清洁剂分散元件设置在该物体的支架的一侧上，该侧与清洁剂发生碰撞的一侧相反；以及

该抗清洁剂分散元件被构造成根据该物体的外形通过其自身重量或压力而变形，以紧紧地无间隙地附着在该物体上并防止该清洁剂移动到该支架的相反侧。

2.根据权利要求1的抗清洁剂分散元件，还包括：

根据该物体的外形而变形的核心元件；

覆盖该核心元件的表面的表面层，其由抗磨损材料制成，以保护免受清洁剂的撞击并且不妨碍该核心元件的变形。

3.根据权利要求2的抗清洁剂分散元件，其中

该核心元件由低斥力泡沫材料构成。

4.根据权利要求2的抗清洁剂分散元件，还包括：

具有刚性的元件，用于支撑该核心元件的相反侧。

5.根据权利要求2的抗清洁剂分散元件，其中

所述表面层是可替换的。

6.一种用于干式清洗设备的物体支架，该干式清洗设备通过气流分散清洁剂以允许该清洁剂与物体碰撞以进行清洗，该支架具有：

用于保持该物体的框架，其包括根据权利要求1的该抗清洁剂分散元件。

7.根据权利要求6的物体支架，其中

该框架包括按压元件，该按压元件通过压力使该抗清洁剂分散元件变形。

8.根据权利要求6的物体支架，其中

该框架构造成保持该抗清洁剂分散元件的变形状态。

9.根据权利要求6的物体支架，还具有

面积调节器，该面积调节器根据该物体的尺寸调节其中保持所述物体的支架的面积。

10.一种干式清洗设备，其通过气流分散清洁剂以允许该清洁剂与物体碰撞来进行清洗，该设备具有：

具有开口的清洗罐，清洁剂在其中分散；以及

根据权利要求6的物体支架，该物体支架设置在所述开口中，以将该物体保持在可清洗位置。

11.一种干式清洗设备，其通过气流分散清洁剂以允许该清洁剂与物体碰撞以进行清洗，该设备具有：

清洗单元，在该清洗单元中，清洁剂通过回转气流分散，在回转区域的一部分中包括开口，该清洁剂从该开口被引导以与该物体碰撞；以及

根据权利要求6的该物体支架，该物体支架将物体固定在可清洗位置；以及

移动单元，该移动单元移动该清洗单元以改变清洗位置。