[发明专利]具有黑色极薄铜箔的铜箔结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210510185.1 申请日: 2012-12-03
公开(公告)号: CN103857178B 公开(公告)日: 2017-07-04
发明(设计)人: 邹明仁;陈国钊;林雅玫 申请(专利权)人: 南亚塑胶工业股份有限公司
主分类号: H05K1/09 分类号: H05K1/09;B32B15/04;B32B15/20;C25D3/56
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 刘春生,于宝庆
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种具有黑色极薄铜箔的铜箔结构及其制造方法,该具有黑色极薄铜箔的铜箔结构包括一载体箔、一黑化层、一剥离层及一极薄铜箔,该载体箔具有一光滑面及一压合面,该黑化层设置于该载体箔的光滑面,且该黑化层由铜、钴、镍及锰组成中至少两个所构成,该剥离层设置于该黑化层上,该剥离层由钼、镍、铬及钾组成中至少两个所构成,该极薄铜箔设置于该剥离层上。经由所述极薄铜箔的黑色外观,可以直接进行激光钻孔,当运用于电路板内层时,也可省去传统黑、棕化制程而直接运用,同时黑色外观的极薄铜箔在与聚亚酰胺薄膜(PI)或是其它基材结合时,可显现优异外观。
搜索关键词: 具有 黑色 铜箔 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种具有黑色极薄铜箔的铜箔结构,黑色极薄铜箔的色度Y值小于等于25,其特征在于,包括:一载体箔,其具有一光滑面及一压合面;一黑化层,其设置于该载体箔的光滑面,该黑化层是由包括铜、钴、镍及锰的四元合金所构成;一剥离层,其设置于该黑化层上,该剥离层是由钼、镍、铬及钾中至少两个所构成;以及一极薄铜箔,其设置于该剥离层上。
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