[发明专利]利用在Ti表面原位合成的TiO2纳米管覆层负载庆大霉素的方法有效

专利信息
申请号: 201210487406.8 申请日: 2012-11-26
公开(公告)号: CN103007347A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 李华;刘忠堂;王珮;刘河洲;王立强 申请(专利权)人: 上海交通大学;上海市第六人民医院
主分类号: A61L27/30 分类号: A61L27/30;A61L27/54;C25D11/26
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 蒋亮珠
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种利用在Ti表面原位合成的TiO2纳米管覆层负载庆大霉素的方法,首先利用阳极氧化法在预处理后的钛基板上制备TiO2纳米管覆层,然后将制得的TiO2纳米管浸到碱性溶液中,进而通过共沉淀法在TiO2纳米管覆层中负载庆大霉素。与现有技术相比,本发明建立了一种工艺简单、具有良好生物相容性的TiO2纳米管覆层的制备路径和利用TiO2纳米管进行药物负载/释放的模式,为人工关节置换术后假体相关感染的预防和治疗提供了新方法。
搜索关键词: 利用 ti 表面 原位 合成 tio sub 纳米 覆层 负载 庆大霉素 方法
【主权项】:
一种利用在Ti表面原位合成的TiO2纳米管覆层负载庆大霉素的方法,其特征在于,首先利用阳极氧化法在预处理后的钛基板上制备TiO2纳米管覆层,然后将制得的TiO2纳米管浸到碱性溶液中,进而通过共沉淀法在TiO2纳米管覆层中负载庆大霉素。
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