[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210477926.0 申请日: 2012-11-22
公开(公告)号: CN103137702A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 金相基;李镇浩;罗景一;具珍根;梁壹锡 申请(专利权)人: 韩国电子通信研究院
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/40;H01L29/423;H01L21/336;H01L21/283
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供半导体装置及其制造方法。该装置可包括提供在半导体基板中的柱、提供在半导体基板中且与柱间隔开的场板电极、提供在半导体基板中且设置在场板电极上的栅极图案,场板电极连接到栅极图案的下端部,场板电介质设置在半导体基板与场板电极之间,并且栅极电介质图案插设在半导体基板与栅极图案的侧壁之间,栅极电介质图案的厚度小于场板电介质的厚度。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置,包括:柱,提供在半导体基板中;场板电极,提供在该半导体基板中且与该柱间隔开;栅极图案,提供在该半导体基板中且设置在该场板电极上,该场板电极连接到该栅极图案的下端部;场板电介质,设置在该半导体基板与该场板电极之间;以及栅极电介质图案,插设在该半导体基板与该栅极图案的侧壁之间,该栅极电介质图案的厚度小于该场板电介质的厚度。
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