[发明专利]一种双面制程方法及曝光装置无效
| 申请号： | 201210477747.7 | 申请日： | 2012-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN102968000A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 王灿;何璇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G03F1/42 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体和液晶显示器领域，尤其涉及半导体和液晶显示器制作过程中双面制程方法及曝光装置，即在曝光操作过程中，首先对曝光机内两张光掩模进行设备内的对位处理，再将基板运送到曝光装置的两张光掩模之间，然后进行该基板双面图形的制作。该曝光装置包括两张掩光板，需要加工的基板设置在所述两张掩光板之间；所述两张掩光板上分别设有掩光板对位标识。本发明在基板图案双面制程时，对掩光板预先进行对位操作，保证了基板双面图案的精确，保证了产品的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 方法 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种双面制程方法，其特征在于，在曝光操作过程中，包括以下步骤：S1：对曝光装置内两张掩光板进行对位处理；S2：将基板运送到曝光装置的两张掩光板之间；S3：在所述基板上进行双面图形的曝光操作。
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