[发明专利]一种双面制程方法及曝光装置

权利要求书

1.一种双面制程方法，其特征在于，在曝光操作过程中，包括以下步骤：

S1：对曝光装置内两张掩光板进行对位处理；

S2：将基板运送到曝光装置的两张掩光板之间；

S3：在所述基板上进行双面图形的曝光操作。

2.根据权利要求1所述的双面制程方法，其特征在于，步骤S1中，所述两张掩光板根据该两张掩光板上分别设有的掩光板对位标识进行对位处理。

3.根据权利要求1所述的双面制程方法，其特征在于，步骤S3中，所述基板任一面进行曝光操作时，均预先通过基板两侧和掩光板上分别设有的基板对位标识对该基板进行对位操作。

4.一种双面制程曝光装置，其特征在于，包括两张掩光板，需要加工的基板设置在所述两张掩光板之间；所述两张掩光板上分别设有掩光板对位标识。

5.根据权利要求4所述的双面制程曝光装置，其特征在于，该曝光装置采用双光源，所述两个光源分别在所述基板的两侧对应设置，每个光源的出射光经过掩光板对所述基板进行曝光操作。

6.根据权利要求4所述的双面制程曝光装置，其特征在于，该曝光装置采用单光源，该单光源的出射光具有双向光路，其中，两条单向光路分别设置在所述基板的两侧，每条单向光路经掩光板对该基板进行曝光操作。

7.根据权利要求6所述的双面制程曝光装置，其特征在于，所述曝光装置中每个单向光路均采用单独控制的方式。

8.根据权利要求4所述的双面制程曝光装置，其特征在于，所述掩光板对位标识的形状为十字形。

9.根据权利要求8所述的双面制程曝光装置，其特征在于，所述基板的两侧面及掩光板上均设有基板对位标识，所述基板对位标识的形状为X形。