[发明专利]涡旋盘结构有效
申请号: | 201210475549.7 | 申请日: | 2012-11-21 |
公开(公告)号: | CN102927012A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 霍勇贤;陈旭;霍蔚辰 | 申请(专利权)人: | 霍勇贤;陈旭;霍蔚辰 |
主分类号: | F04C29/00 | 分类号: | F04C29/00;F04C18/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种涡旋盘结构,包括具有相同螺旋型线的动涡旋盘和静涡旋盘,螺旋型线由若干个上半圆和若干个下半圆组成,若干个上半圆和若干个下半圆的直径各不相同,且上半圆与下半圆在连接处相切。发明的螺旋型线全部采用圆弧组成,设计简单,制造方便,机械性能大大提高,而且可以保证较高的加工精度,有效降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 涡旋 盘结 | ||
【主权项】:
一种涡旋盘结构,包括动涡旋盘和静涡旋盘,所述动涡旋盘和静涡旋盘具有相同的螺旋型线,其特征在于:所述螺旋型线由若干个上半圆和若干个下半圆组成,所述若干个上半圆和若干个下半圆的直径各不相同,所述上半圆与下半圆在连接处相切,上半圆满足以下方程式: x = L 1 i + R 1 i × cos α y = R 1 i × sin α 0°≤α≤180°;L11=0;L1i=2(R21+R22+,...,+R2(i‑1))‑2(R11+R12+,...,+R1i)+R11+R1i,i≠1;下半圆满足以下方程式: x = L 2 i + R 2 i × cos α y = R 2 i × sin α 180°≤α≤360°;L2i=2(R21+R22+,...,+R2i)‑2(R11+R12+,...,+R1i)+R11‑R2i;其中,R1i为第i个上半圆的半径,R2i为第i个下半圆的半径,L1i为第i个上半圆与最小半圆的圆心距,L2i为第i个下半圆与最小半圆的圆心距,i=1,2,3,...,n,n为螺旋型线的圈数。
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