[发明专利]涡旋盘结构

权利要求书

1.一种涡旋盘结构，包括动涡旋盘和静涡旋盘，所述动涡旋盘和静涡旋盘具有相同的螺旋型线，其特征在于：所述螺旋型线由若干个上半圆和若干个下半圆组成，所述若干个上半圆和若干个下半圆的直径各不相同，所述上半圆与下半圆在连接处相切，上半圆满足以下方程式：

x=L1i+R1i×cosαy=R1i×sinα]]>0°≤α≤180°；

L₁₁＝0；

L_1i＝2(R₂₁+R₂₂+，...，+R_2(i-1))-2(R₁₁+R₁₂+，...，+R_1i)+R₁₁+R_1i，i≠1；下半圆满足以下方程式：

x=L2i+R2i×cosαy=R2i×sinα]]>180°≤α≤360°；

L_2i＝2(R₂₁+R₂₂+，...，+R_2i)-2(R₁₁+R₁₂+，...，+R_1i)+R₁₁-R_2i；

其中，R_1i为第i个上半圆的半径，R_2i为第i个下半圆的半径，L_1i为第i个上半圆与最小半圆的圆心距，L_2i为第i个下半圆与最小半圆的圆心距，i＝1，2，3，...，n，n为螺旋型线的圈数。

2.如权利要求1所述的涡旋盘结构，其特征在于：所述动涡旋盘和静涡旋盘为等壁厚，且动涡旋盘在静涡旋盘中的回转平动半径满足以下方程式：

r＝R₀-b/2

其中，r为回转半径，R₀为所述最小半圆的半径，b为壁厚。

3.如权利要求1所述的涡旋盘结构，其特征在于：所述动涡旋盘和静涡旋盘为变壁厚，且动涡旋盘在静涡旋盘中的回转半径满足以下方程式：

r＝R₀-b₀/2

其中，r为回转半径，R₀为所述最小半圆的半径，b₀为最小半圆始端的壁厚。