[发明专利]一种p型非晶硅碳-纳米颗粒硅多量子阱窗口层材料无效

专利信息
申请号: 201210436043.5 申请日: 2012-11-05
公开(公告)号: CN102903767A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 倪牮;马峻;张建军;侯国付;陈新亮;张晓丹;赵颖 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L31/0376 分类号: H01L31/0376;H01L31/0352
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 侯力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种p型非晶硅碳-纳米颗粒硅多量子阱窗口层材料,是采用层递式沉积方法制备的由宽带隙非晶硅碳薄膜和窄带隙p型纳米颗粒硅薄膜交替生长的多层材料,非晶硅碳薄膜的厚度为2-8nm,p型纳米颗粒硅薄膜的厚度为2-8nm,如此循环沉积多次,直至形成总厚度为20-50nm的p型非晶硅碳-纳米颗粒硅多量子阱材料;该p型非晶硅碳-纳米颗粒硅多量子阱窗口层材料用于硅基薄膜太阳电池。本发明的优点是:该材料光学带隙可达2.0~3.7eV,电导率可达0.1~5.0S/cm;该材料用于硅基薄膜太阳电池,可显著提高电池的开路电压,降低窗口层的光吸收损失,提高电池的短波响应和短路电流密度,提高光电转换效率。
搜索关键词: 一种 型非晶硅碳 纳米 颗粒 多量 窗口 材料
【主权项】:
一种p型非晶硅碳‑纳米颗粒硅多量子阱窗口层材料,其特征在于:是采用层递式沉积方法制备的由宽带隙非晶硅碳薄膜和窄带隙p型纳米颗粒硅薄膜交替生长的多层材料,非晶硅碳薄膜的厚度为2‑8nm,该薄膜中碳含量为30‑100%,然后是一层p型纳米颗粒硅薄膜,该薄膜厚度为2‑8nm,薄膜内部硅结晶形态为颗粒状,结晶成分占全部材料的体积百分比为70‑100%;如此循环沉积多次,直至形成总厚度为20‑50nm的p型非晶硅碳‑纳米颗粒硅多量子阱材料。
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