[发明专利]一种恶臭假单胞菌用培养基无效

专利信息
申请号: 201210432500.3 申请日: 2012-11-02
公开(公告)号: CN102888378A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 郭峰波;贾万利;李颖 申请(专利权)人: 中北大学
主分类号: C12N1/20 分类号: C12N1/20;C12R1/40
代理公司: 太原华弈知识产权代理事务所 14108 代理人: 李毅
地址: 030051*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 一种恶臭假单胞菌用培养基,每1000mL培养基中含有牛肉膏7~13g,尿素2~5g,磷酸氢二钾2~3g,磷酸二氢钾0.5~2g,氯化钙0.3~1.2g,硝酸钠3.4~5.6g,微量元素和生长因子溶液1~5mL,去离子水余量,其中微量元素和生长因子溶液中含MoSO42.4~3.6mmol/L,CuCl21.5~2.8mmol/L,ZnCl23.0~4.0mmol/L,FeSO44.2~4.8mmol/L,尿嘧啶15~21mmol/L,VB620~35mmol/L,L-色氨酸30~50mmol/L。本发明提供的培养基为恶臭假单胞菌提供了优良的生长环境,使用本发明培养基培养恶臭假单胞菌培养时间快,菌株耐受性高,适应能力强,对硝基苯的降解效率达94.5%以上,同时还对含苯环和硝基类物质具有较高的耐受性。
搜索关键词: 一种 恶臭 假单胞菌用 培养基
【主权项】:
一种恶臭假单胞菌用培养基,每1000mL培养基中含有:牛肉膏7~13g,尿素2~5g,磷酸氢二钾2~3g,磷酸二氢钾0.5~2g,氯化钙0.3~1.2g,硝酸钠3.4~5.6g,微量元素和生长因子溶液1~5mL,去离子水余量;其中,所述的微量元素和生长因子溶液中含MoSO4 2.4~3.6mmol/L,CuCl2 1.5~2.8mmol/L,ZnCl2 3.0~4.0mmol/L,FeSO4 4.2~4.8mmol/L,尿嘧啶15~21mmol/L,VB6 20~35mmol/L,L‑色氨酸30~50mmol/L;调节培养基的pH值范围为7.5~8.2。
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