[发明专利]硅铸锭用坩埚及其涂层制备方法有效
| 申请号： | 201210416153.5 | 申请日： | 2012-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN103774215B | 公开（公告）日： | 2016-11-02 |
| 发明（设计）人： | 李飞龙;许涛 | 申请（专利权）人： | 阿特斯（中国）投资有限公司;阿特斯光伏电力（洛阳）有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06;C30B29/06;C03C17/06;C03C17/22 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 杨林洁 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种硅铸锭用坩埚及其涂层制备方法。所述坩埚包括坩埚本体以及覆盖在所述坩埚本体内表面上的由纯水、氮化硅粉体和铝微粉制成的含铝涂层。所述制备方法包括以下步骤：S1，量取一定量纯水，并将该纯水置于一超声水浴容器内的烧杯中，同时调整水浴温度为35℃至40℃；S2，称取一定量的氮化硅粉体和铝微粉并加入所述烧杯中，然后开启超声水浴容器进行搅拌；S3，待搅拌30分钟后将搅拌好的浆料喷涂至一坩埚本体的内表面上；S4，将喷涂完成的坩埚置于温度为200℃的烧结炉内进行烘干烧结。本发明含铝涂层中的铝原子填充在氮化硅粉体颗粒之间的缝隙内以增加涂层的密度，同时该铝原子还可吸杂，进而有效显著减少坩埚向硅锭中的杂质扩散量。 | ||
| 搜索关键词： | 铸锭 坩埚 及其 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种硅铸锭用坩埚，包括坩埚本体，其特征在于：所述坩埚还包括覆盖在所述坩埚本体内表面上的由纯水、氮化硅粉体和铝微粉制成的含铝涂层，含铝涂层中所述铝微粉与氮化硅粉体的比例为1:8至1:15，所述铝微粉的粒径为0.1um至0.3um。
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