[发明专利]硅铸锭用坩埚及其涂层制备方法

权利要求书

1.一种硅铸锭用坩埚，包括坩埚本体，其特征在于：所述坩埚还包括覆盖在所述坩埚本体内表面上的由纯水、氮化硅粉体和铝微粉制成的含铝涂层。

2.根据权利要求1所述的硅铸锭用坩埚，其特征在于：含铝涂层中所述铝微粉与氮化硅粉体的比例为1:8至1:15。

3.根据权利要求1所述的硅铸锭用坩埚，其特征在于：所述铝微粉的粒径为0.1um至0.3um。

4.根据权利要求1所述的硅铸锭用坩埚，其特征在于：所述氮化硅粉体的纯度大于99.9%。

5.根据权利要求1所述的硅铸锭用坩埚，其特征在于：所述铝微粉的纯度大于99.99%。

6.一种硅铸锭用坩埚涂层的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：

S1，量取一定量纯水，并将该纯水置于一超声水浴容器内的烧杯中，同时调整水浴温度为35℃至40℃；

S2，称取一定量的氮化硅粉体和铝微粉并加入所述烧杯中，然后开启超声水浴容器进行搅拌；

S3，待搅拌30分钟后将搅拌好的浆料喷涂至一坩埚本体的内表面上；

S4，将喷涂完成的坩埚置于温度为200℃的烧结炉内进行烘干烧结。

7.根据权利要求6所述的硅铸锭用坩埚涂层的制备方法，其特征在于：所述S1步骤中的纯水的电阻率大于12MΩ·cm。

8.根据权利要求6所述的硅铸锭用坩埚涂层的制备方法，其特征在于：所述称取的铝微粉与氮化硅粉体的比例为1:8至1:15。

9.根据权利要求8所述的硅铸锭用坩埚涂层的制备方法，其特征在于：所述氮化硅粉体与S1步骤中量取的纯水的比例为1:4至1:5。

10.根据权利要求6所述的硅铸锭用坩埚涂层的制备方法，其特征在于：所述铝微粉的粒径为0.1um至0.3um。

11.根据权利要求6所述的硅铸锭用坩埚涂层的制备方法，其特征在于：所述氮化硅粉体的纯度大于99.9%，所述铝微粉的纯度大于99.99%。