[发明专利]可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法有效
| 申请号： | 201210411603.1 | 申请日： | 2012-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103044977A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 郭昭龙;赵卫;赵海新 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C09D1/00 | 分类号： | C09D1/00;C09D5/00;C03C17/23;C01B33/141 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 杨引雪 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，主要解决了现有方法制备的涂料不具备亲水自清洁功能和减反射增透功能，同时，还需要在高温下进行固化的问题。该可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法包括以下步骤：1]取氨水、醇和去离子水混合后加热；2]再取有机硅源和醇混合得到混合液；3]将经步骤2制备的反应溶液一次性加入步骤1制备的混合液中反应等处理后即得到成品。该方法所形成的膜层均匀，表面纳米结构规则，粒子表面羟基密度大，因此透光率大幅提升，单面镀膜时透光率提升达到3%以上。同时具有良好的亲水自清洁性。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 清洁 减反射膜 涂料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1]取氨水、醇和去离子水混合后加热至30‑90℃，氨水、醇、去离子水的体积比为1：10‑60：0.5‑5；2]取有机硅源和醇混合得到混合液，有机硅源和醇的体积比例为1：1‑30；3]将经步骤2制备的反应溶液一次性加入步骤1制备的混合液中反应1‑15min，步骤1制备的溶液与步骤2制备的反应溶液体积比为2：1‑2，4]向步骤3制备的溶液中添加去离子水反应1‑15min，添加量为总溶液体积的5‑30%；然后再添加氨水反应，添加量为总溶液体积的0.5‑8%；5]步骤4反应完成后，再反应1‑6小时；6]步骤5反应完成后，去除氨气即得到成品。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所，未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210411603.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
