[发明专利]可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法

权利要求书

1.一种可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1]取氨水、醇和去离子水混合后加热至30-90℃，氨水、醇、去离子水的体积比为1：10-60：0.5-5；

2]取有机硅源和醇混合得到混合液，有机硅源和醇的体积比例为1：1-30；

3]将经步骤2制备的反应溶液一次性加入步骤1制备的混合液中反应1-15min，步骤1制备的溶液与步骤2制备的反应溶液体积比为2：1-2，

4]向步骤3制备的溶液中添加去离子水反应1-15min，添加量为总溶液体积的5-30%；然后再添加氨水反应，添加量为总溶液体积的0.5-8%；

5]步骤4反应完成后，再反应1-6小时；

6]步骤5反应完成后，去除氨气即得到成品。

2.根据权利要求1所述的可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，其特征在于：所述步骤6去除氨气是采用加热冷凝回流的方法去除。

3.根据权利要求2所述的可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，其特征在于：所述步骤1、步骤2中所述的醇为甲醇、丙醇、异丙醇、丁醇的一种或两种及两种以上以任意比例混合。

4.根据权利要求3所述的可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，其特征在于：所述步骤2中所述的机硅源指的是正硅酸甲酯、正硅酸乙酯、正硅酸丙酯中的一种或者两种及两种以上以任意比例混合。

5.根据权利要求4所述的可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法，其特征在于：所述步骤4进行1-3次。