[发明专利]用于非晶硅薄膜均匀镀膜的沉积夹具在审
申请号: | 201210399041.3 | 申请日: | 2012-10-19 |
公开(公告)号: | CN103774119A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 陈五奎;雷晓全;李文江;王斌;王富军 | 申请(专利权)人: | 陕西拓日新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 | 代理人: | 孟海娟 |
地址: | 715200 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及镀膜装置,尤其涉及用于非晶硅薄膜均匀镀膜的沉积夹具。本发明采取如下技术方案:包含一个以上的相邻分布的铝板,所述铝板两面的下方各自有一组高度相同的固定滚轮。所述一组以上的铝板之间距离相同。采用如上技术方案的本发明,具有如下有益效果:待镀膜的单面导电玻璃通过固定滚轮滚进去,固定即稳定,保证多组导电玻璃放置的一致性,保证非晶硅薄膜厚度的均一性,同时节省操作时间,提高产品质量。 | ||
搜索关键词: | 用于 非晶硅 薄膜 均匀 镀膜 沉积 夹具 | ||
【主权项】:
用于非晶硅薄膜均匀镀膜的沉积夹具,其特征在于,包含一个以上的相邻分布的铝板,所述铝板两面的下方各自有一组高度相同的固定滚轮(8)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的