[发明专利]基于支持向量机回归的晶体直径测量方法有效
申请号: | 201210391462.1 | 申请日: | 2012-10-12 |
公开(公告)号: | CN102914270A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 梁军利;张妙花;范自强;刘丁;梁炎明 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | G01B11/08 | 分类号: | G01B11/08 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于支持向量机回归的晶体直径测量方法,首先采用CCD照相机采集单晶硅生长过程中的孔径图像,对该孔径图像进行预处理得到用于估计的采样点;然后,针对椭圆的标准模型推导出来一个用于支持向量机回归的模型,利用ε-SVR模型解出模型中的权值w及偏移量b,从而确定出椭圆拟合的参数。本发明的方法,能准确的估计晶体生长中的直径变化,使生长中的晶体直径得到很好的控制,又能在很少样本点的情况下进行很好的直径拟合,在解决高维数据时发挥了很大的优势,这是其他方法所不能达到的。 | ||
搜索关键词: | 基于 支持 向量 回归 晶体 直径 测量方法 | ||
【主权项】:
一种基于支持向量机回归的晶体直径测量方法,其特征在于:首先采用CCD照相机采集单晶硅生长过程中的孔径图像,对该孔径图像进行预处理得到用于估计的采样点;然后,针对椭圆的标准模型推导出来一个用于支持向量机回归的ε‑SVR模型,利用ε‑SVR模型解出模型中的权值w及偏移量b,从而确定出椭圆拟合的参数。
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