[发明专利]一种激光辅助清除基体表面纳米颗粒的方法和装置无效
| 申请号： | 201210391284.2 | 申请日： | 2012-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN102989720A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 鲁金忠;罗开玉;钟金杉;罗密;齐晗;刘娟;王志龙 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B23K26/36 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 楼高潮 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种激光辅助清除硅晶片等基体表面纳米颗粒的方法和装置，特指一种利用激光聚焦将空气介电击穿形成急剧膨胀的等离子体，等离子体周围空气被快速压缩成为较强的冲击波阵面而直接作用于基体表面使纳米颗粒受到力或滚动力矩的作用与晶片或光掩模等基体分离的方法和装置，该方法和装置尤其适用于去除基体表面100nm及更小尺寸的颗粒。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 辅助 清除 基体 表面 纳米 颗粒 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种激光辅助清除基体表面纳米颗粒清除的方法，其特征在于：包括以下步骤：(1) 将需进行颗粒清除的基体固定在三轴微动控制平台上；(2) 调节三轴微动控制平台垂直移动使基体上表面到凸透镜焦点的垂直距离为1‑2 mm；调节三轴微动控制平台左右前后移动使基体表面位于即将产生的等离子体的(即激光束聚焦位置)正下方；(3) 发射脉冲激光束穿透凸透镜于透镜焦点聚焦，焦点处空气被介电击穿形成急剧膨胀的等离子体使周围空气被迅速压缩而成为强冲击波阵面，强冲击波阵面直接作用于基体表面使纳米颗粒受到力或滚动力矩的作用与基体分离。
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