[发明专利]一种激光辅助清除基体表面纳米颗粒的方法和装置

权利要求书

1.一种激光辅助清除基体表面纳米颗粒清除的方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1) 将需进行颗粒清除的基体固定在三轴微动控制平台上；

(2) 调节三轴微动控制平台垂直移动使基体上表面到凸透镜焦点的垂直距离为1-2 mm；调节三轴微动控制平台左右前后移动使基体表面位于即将产生的等离子体的(即激光束聚焦位置)正下方；

(3) 发射脉冲激光束穿透凸透镜于透镜焦点聚焦，焦点处空气被介电击穿形成急剧膨胀的等离子体使周围空气被迅速压缩而成为强冲击波阵面，强冲击波阵面直接作用于基体表面使纳米颗粒受到力或滚动力矩的作用与基体分离。

2.如权利要求1所述的一种激光辅助清除基体表面纳米颗粒清除的方法，其特征在于：所述基体包括硅晶片和光刻掩模基体。

3.如权利要求1所述的一种激光辅助清除基体表面纳米颗粒的方法，其特征在于：所述脉冲激光束为Nd：YAG脉冲激光，脉宽1064 nm，脉冲能量150~45 0mJ，重复频率10 Hz，脉宽5~10ns。

4.如权利要求1所述的一种激光辅助清除基体表面纳米颗粒的方法，其特征在于：所述凸透镜焦距为100 mm。