[发明专利]一种溶液法制备三碘化铯锡薄膜的方法有效
申请号: | 201210382413.1 | 申请日: | 2012-10-09 |
公开(公告)号: | CN103708534A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 沈凯;陈琢;任宇航 | 申请(专利权)人: | 浙江尚颉光电科技有限公司 |
主分类号: | C01G19/00 | 分类号: | C01G19/00;C03C17/22;C04B41/85 |
代理公司: | 北京市盛峰律师事务所 11337 | 代理人: | 赵建刚 |
地址: | 311121 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供一种溶液法制备三碘化铯锡薄膜的方法,包括以下步骤:S11,制备CsI溶液,所述CsI溶液的浓度为5wt%至50wt%;S12,制备SnCl2溶液,所述SnCl2溶液的浓度为10wt%至80wt%;S13,将所述CsI溶液和所述SnCl2溶液混合,制备三碘化铯锡溶液;S14,将所述三碘化铯锡溶液滴涂到所述基底上;S15,加热所述基底至干燥,在所述基底上形成三碘化铯锡薄膜。本发明滴涂法制备三碘化铯锡(CsSnI3)薄膜的方法,在玻璃、陶瓷和金属箔等大面积基底上合成薄膜,不需要基于真空手段就能合成CsSnI3薄膜的方法,可显著降低成本,使这种薄膜作为新的太阳能电池吸收材料将得到广泛的应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 溶液 法制 碘化 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
一种溶液法制备三碘化铯锡薄膜的方法,其特征在于,包括: S11,制备CsI溶液,所述CsI溶液的浓度为5wt%至50wt%; S12,制备SnCl2溶液,所述SnCl2溶液的浓度为10wt%至80wt%; S13,将所述CsI溶液和所述SnCl2溶液混合,制备三碘化铯锡溶液; S14,将所述三碘化铯锡溶液滴涂到所述基底上; S15,加热所述基底至干燥,在所述基底上形成三碘化铯锡薄膜。
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