[发明专利]双面光刻机的对位结构及对位方法有效
| 申请号： | 201210369733.3 | 申请日： | 2012-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN103713477A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 徐春云 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双面光刻机的对位结构及对位方法，该对位标记包括“+”字型的主对位标记及若干对称设于主对位标记上下左右的辅助对位标记，所述“+”字型的主对位标记由水平主对位标记和垂直主对位标记垂直交叉形成，所述辅助对位标记为阶梯状，每个辅助对位标记由若干宽度相同、长度成等差数列的长方形组成。本发明通过采用“+”字型的主对位标记与主对位标记上下左右的辅助对位标记进行对位，有利于肉眼分辨对位位置，提供了对位精度，减少手动对位引起的误差，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 光刻 对位 结构 方法 | ||
【主权项】：
一种双面光刻机的对位结构，其特征在于，所述对位结构包括“+”字型的主对位标记及若干对称设于主对位标记上下左右的辅助对位标记，所述“+”字型的主对位标记由水平主对位标记和垂直主对位标记垂直交叉形成，所述辅助对位标记为阶梯状，每个辅助对位标记由若干宽度相同、长度成等差数列的长方形组成。
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