[发明专利]一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法有效
| 申请号: | 201210365757.1 | 申请日: | 2012-09-27 |
| 公开(公告)号: | CN102862950A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
| 发明(设计)人: | 罗先刚;赵泽宇;王长涛;王彦钦;黄成;陶兴;杨欢;刘利芹;杨磊磊;蒲明薄 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;G02B3/00 |
| 代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明;顾炜 |
| 地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | 本发明提供一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法,首先确定入射波长,选取合适的透光基底材料,基底上再蒸镀一层金属膜,让入射光垂直于金属膜表面入射;利用纳米加工技术在金属膜上加工等宽度的狭缝或者环形缝阵列;对于预定焦点位置的光聚焦,计算光在焦点位置聚焦时光波在不同位置排布的狭缝或者环形缝的位相延迟分布,通过聚焦离子束引导沉积特定厚度的介质满足光波在不同位置排布狭缝或者环形缝的位相延迟要求,使金属聚焦透镜实现对入射光在预定焦点位置的聚焦。本发明根据预定的焦点位置来改变金属聚焦透镜的狭缝或者环形缝内介质厚度沉积以实现近场或者远场光聚焦,同时其透镜结构简单,可很方便的用于光路系统集成,具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 纳米 缝隙 金属 聚焦 透镜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法,其特征在于包括下列步骤:步骤(1)、选择入射光的工作波长λ,根据其波长选择可以透光的基底材料;步骤(2)、在基底表面蒸镀厚度为d的金属膜,入射光垂直于金属膜上表面入射;步骤(3)、取垂直穿过金属膜的中心为中轴,假设中轴与金属膜上表面相交位置为坐标原点,在金属膜上表面取过原点的某方向为x轴方向,确定x轴正方向,利用纳米加工技术在金属膜上加工宽度w的多组狭缝或者多组同心环形缝;步骤(4)、对于预定焦点位置f的光聚焦,利用聚焦离子束在狭缝或者环形缝内引导沉积满足等光程要求的不同介质厚度,加工出一种纳米缝隙金属聚焦透镜。
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