[发明专利]一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210365757.1 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN102862950A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 罗先刚;赵泽宇;王长涛;王彦钦;黄成;陶兴;杨欢;刘利芹;杨磊磊;蒲明薄 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;G02B3/00
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 杨学明;顾炜
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 缝隙 金属 聚焦 透镜 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及金属膜上加工狭缝或者环形缝的聚焦装置的技术领域,特别涉及一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法,该纳米缝隙金属聚焦透镜具体为纳米狭缝介质沉积调制相位的纳米金属聚焦透镜。

背景技术

近年来,基于表面等离子体位相调制的金属结构纳光子器件设计引起人们的极大关注。通过表面等离子体在金属狭缝的反对称色散特性,表面等离子体在金属狭缝的传播常数由缝隙宽度和缝隙材料的介电常数决定。现有金属结构纳光子器件设计的位相调制都是通过调节金属膜上狭缝宽度,从而实现亚波长尺度下的位相调制。然而,改变金属缝隙宽度调节位相的能力非常有限。为了实现周期范围(0到2π)范围内的位相变化,通常要求金属狭缝的宽度小于20纳米,金属膜厚度大于200纳米。现有纳米加工技术手段加工高深宽比(>10:1)的金属狭缝具有非常大的难度。

发明内容

本发明要解决的技术问题是:克服现有技术的不足,利用表面等离子体的传播特性提出一种纳米缝隙金属聚焦透镜及制备方法,方便用于光路系统集成的包含纳米级缝隙的金属透镜。

本发明解决其技术所采用的技术方案:一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法,其特征在于步骤如下:

步骤(1)、选择入射光的工作波长λ,根据其波长选择可以透光的基底材料;

步骤(2)、在基底表面蒸镀厚度为d的金属膜,入射光垂直于金属膜上表面入射;

步骤(3)、取垂直穿过金属膜的中心为中轴,假设中轴与金属膜上表面相交位置为坐标原点,在金属膜上表面取过原点的某方向为x轴方向,确定x轴正方向,利用纳米加工技术在金属膜上加工宽度w的多组狭缝或者多组同心环形缝;

步骤(4)、对于预定焦点位置f的光聚焦,利用聚焦离子束在狭缝或者环形缝内引导沉积满足等光程要求的不同介质厚度,加工出纳米缝隙金属聚焦透镜。

步骤(4)中的不同介质厚度数据可以通过下述步骤得到。

步骤①、通过公式(1)、(2)、(3)和(4)计算,可以得到光波金属膜上狭缝或者环形缝的沉积介质和空气区域中的位相延迟Δφdie和Δφair

tanh(βdie2-k02ϵdw/2)=-ϵdβdie2-k02ϵmϵmβdie2-k02ϵd---(1)]]>

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所,未经中国科学院光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210365757.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top