[发明专利]一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法有效
| 申请号: | 201210345173.8 | 申请日: | 2012-09-17 |
| 公开(公告)号: | CN102914949A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
| 发明(设计)人: | 张爱明;李显杰;陈勇;陈修涛 | 申请(专利权)人: | 天津芯硕精密机械有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
| 地址: | 300457 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法,包括对矢量数据的存储、栅格化处理、对数据进行重新组合、扫描曝光时按指定规则读取组合后的数据进行曝光。本发明提高了扫描式无掩膜光刻机的曝光分辨率,在同样的SLM物理网格精度下成倍的提高曝光精度。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 扫描 式无掩膜 光刻 倾斜 slm 曝光 数据处理 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)输入矢量数据,并将矢量数据缓存在计算机内存中,通过一定的计算和处理,为矢量数据建立结构;(2)对具有一定结构的矢量数据进行栅格化处理, 栅格化处理的单帧图像大小由空间光调制器即SLM的宽度和倾斜的角度来确定,每个栅格的大小即曝光实现的网格精度和SLM倾斜时的倾斜角度相关,栅格化的数据量也和SLM倾斜时的倾斜角度有关,倾斜角度是指SLM的成像面在和扫描平台平行的水平方向旋转的角度,假设倾斜角度为θ,倾斜角度θ的正弦值为所要实现的网格精度和SLM实际物理的网格精度之比,由公式
可以计算出N值,N值是SLM进行刷新时显示周期的值;(3)通过对栅格化后的图像进行数据的重新组合,倾斜安装的SLM从组合后的数据中按行读取数据并进行曝光;实现了倾斜SLM进行曝光时快速读取图像数据。
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