[发明专利]用于制造准直器的方法以及准直器有效
申请号: | 201210334169.1 | 申请日: | 2012-09-11 |
公开(公告)号: | CN103021493B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | M.米斯;S.沃思 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | G21K1/02 | 分类号: | G21K1/02;B24C1/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 谢强 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于制造二维的准直器(1)的方法,其至少包含下面的方法步骤制造所述准直器(1),其中该准直器(1)的表面具有方法决定的公差(2),其中借助喷砂方法来对所制造的准直器(1)进行后处理,以便去除所述公差(2)并且使所述表面平滑。本发明还涉及一种借助按照本发明的方法所制造并且后处理的准直器(1)。 | ||
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【主权项】:
一种用于制造用于X射线辐射探测器的二维的准直器(1)的方法,其至少包含下面的方法步骤:1.1制造所述准直器(1),其具有多个栅格孔的栅格结构和有特定壁厚的栅格网,其中该准直器(1)的栅格孔中的表面具有方法决定的基于粘附颗粒的公差(2),其特征在于,1.2借助熔化方法来制造所述准直器(1),以及1.3借助喷砂方法对所制造的准直器(1)进行后处理,以便去除所述公差(2)并且使所述表面平滑,1.4其中,借助多个喷射经过准直器栅格的、非磨损的喷射颗粒来去除公差(2)。
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