[发明专利]用于制造准直器的方法以及准直器有效
申请号: | 201210334169.1 | 申请日: | 2012-09-11 |
公开(公告)号: | CN103021493B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | M.米斯;S.沃思 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | G21K1/02 | 分类号: | G21K1/02;B24C1/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 谢强 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 准直器 方法 以及 | ||
1.一种用于制造二维的准直器(1)的方法,其至少包含下面的方法步骤:
1.1制造所述准直器(1),其中该准直器(1)的表面具有方法决定的基于粘附颗粒的公差(2),
其特征在于,
1.2借助喷砂方法对所制造的准直器(1)进行后处理,以便去除所述公差(2)并且使所述表面平滑。
2.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,借助熔化方法、优选借助选择性激光熔化方法来制造所述准直器(1)。
3.按照权利要求1或2所述的方法,其特征在于,借助多个喷射经过所述准直器(1)的喷射颗粒、优选弹丸来去除所述公差(2)。
4.按照权利要求3所述的方法,其特征在于,使用具有下面形状之一的喷射颗粒:圆形的和/或椭圆形的。
5.按照权利要求3或4所述的方法,其特征在于,使用由比所述准直器(1)的材料更硬的材料构成的喷射颗粒。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的方法,其特征在于,使用具有在0.01mm和0.15mm之间、优选在0.02mm和0.1mm之间大小的喷射颗粒。
7.一种准直器(1),特别是二维的准直器,用于在探测器中、特别在CT系统的X射线辐射探测中减弱杂散辐射,其特征在于,借助按照权利要求1至6中任一项所述的方法来制造所述准直器(1)。
8.按照权利要求7所述的准直器(1),其特征在于,所述准直器(1)具有在位于1:10和1:50之间、优选在1:15和1:30之间范围内的纵横比。
9.按照权利要求7或8所述的准直器(1),其特征在于,由下列清单中的材料或者该清单的合金来制造所述准直器(1):钨、钼、钽、铅、铜。
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