[发明专利]电路板及其制作方法有效
申请号: | 201210312000.6 | 申请日: | 2012-08-29 |
公开(公告)号: | CN103635035B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 胡文宏 | 申请(专利权)人: | 宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司;臻鼎科技股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42;H05K1/11 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 066000 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 一种电路板,其包括基底、多个导电垫、介电层、活化金属层、第一金属种子层、第二金属种子层及电连接体。所述导电垫形成于基底的表面。所述介电层形成在多个导电垫表面及从导电垫露出的基底的表面。所述介电层内含有激光活化催化剂。电路板内形成有多个贯穿所述介电层并与多个导电垫一一对应的盲孔。所述活化金属层通过激光活化所述盲孔的内壁的激光活化催化剂形成,并与介电层相接触。所述第二金属种子层形成于活化金属层表面及对应的导电垫表面。电连接体形成于第二金属种子层表面并凸出于所述介电层。所述第一金属种子层形成在介电层远离基底的表面。所述导电线路形成在所述第一金属种子层表面。本发明还提供一种所述电路板的制作方法。 | ||
搜索关键词: | 电路板 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种电路板的制作方法,包括步骤:提供电路基板,所述电路基板包括基底及形成于基底表面多个导电垫;在所述多个导电垫表面及从多个导电垫露出的基底的表面形成介电层,所述介电层内具有激光活化催化剂;在所述介电层远离电路基板表面形成第一金属种子层;在所述第一金属种子层远离介电层的表面形成电镀光致抗蚀剂层,所述电镀光致抗蚀剂层包括线路部分;对所述电镀光致抗蚀剂层的线路部分进行曝光;采用激光在电镀光致抗蚀剂层、第一金属种子层及介电层内形成多个与多个导电垫一一对应的盲孔,每个所述导电垫从对应的盲孔露出,位于介电层内的盲孔的孔壁的所述激光活化催化剂被活化,形成活化金属层;在所述活化金属层表面形成第二金属种子层,所述第二金属种子层与第一金属种子层相互电导通;对所述电镀光致抗蚀剂层进行显影,使得所述线路部分被去除,从而在电镀光致抗蚀剂层中形成线路开口,部分所述第一金属种子层从所述线路开口露出;在所述盲孔内电镀金属形成电连接体,并在线路开口内形成导电线路,所述电连接体凸出于介电层远离电路基板的表面;以及去除所述电镀光致抗蚀剂层及未被导电线路覆盖的所述第一金属种子层。
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