[发明专利]一种适用于GaN材料外延产业化的托舟有效
申请号: | 201210309119.8 | 申请日: | 2012-08-27 |
公开(公告)号: | CN102797034A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 赵红军;刘鹏;毕绿燕;袁志鹏;张俊业;张国义;童玉珍;孙永健 | 申请(专利权)人: | 东莞市中镓半导体科技有限公司;北京大学 |
主分类号: | C30B25/12 | 分类号: | C30B25/12;C30B29/38 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 谭一兵;王东亮 |
地址: | 523518 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种适用于GaN材料外延产业化的托舟,解决氮化镓半导体材料外延过程中副产物生成过快,导致系统维护频率高的难题。本发明包含有托舟,托舟四周设计有高低不同凸起的侧壁,反应物被喷洒在侧壁内侧,托舟底部设有数层可拆开的分层结构,托舟底部的衬底层上设有复数用于放置衬底的衬底槽,在托舟各层设置位于流道隔壁中的流道,托舟设计有数个尾气出口,尾气出口连接对应的尾气管道。本发明实现了控制副产物生成位置,使副产物生长在托舟内部,以清理托舟方式来降低系统清理频率,有利于实现生长氮化镓材料的产业化。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 gan 材料 外延 产业化 | ||
【主权项】:
一种适用于GaN材料外延产业化的托舟,包含有:托舟(1),其特征在于,所述托舟(1)四周设计有高低不同凸起的侧壁(11),所述托舟(1)底部设有数层可拆开的分层结构,所述托舟(1)底部的衬底层(14)上设有复数用于放置衬底的衬底槽(15),所述托舟(1)各层设置位于流道隔壁(13)中的流道,所述托舟(1)的衬底层(14)下设置有位于流道隔壁(13)中的流道,所述托舟(1)设计有数个尾气出口(12),所述尾气出口(12)连接对应的尾气管道。
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