[发明专利]一种电容式触摸屏架桥结构制作方法有效
| 申请号： | 201210299478.X | 申请日： | 2012-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN102855039A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 汪敏洁;蔡汉业;朱景河;何基强 | 申请（专利权）人： | 信利半导体有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 516600 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种电容式触摸屏架桥结构制作方法，包括：在纳米铟锡金属氧化物ITO上，制作出在第一方向相互连通的基准图形阵列，在垂直于所述第一方向的第二方向上，制作出相互隔断的基准图形阵列；在第二方向上的基准图形阵列的相互隔断的区域设置绝缘层；在所述绝缘层上镀金属膜；采用负性光刻胶对所述金属膜进行光刻；对光刻后的所述金属膜进行蚀刻，以便在第二方向将所述基准图形阵列连通。采用本发明所公开的电容式触摸屏架桥结构制作方法，能够有效避免灰尘等脏污对曝光过程的影响，还能够省去对电路制作保护层的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电容 触摸屏 架桥 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
一种电容式触摸屏架桥结构制作方法，其特征在于，包括：在纳米铟锡金属氧化物ITO上，制作出在第一方向相互连通的基准图形阵列，在垂直于所述第一方向的第二方向上，制作出相互隔断的基准图形阵列；在第二方向上的基准图形阵列的相互隔断的区域设置绝缘层；在所述绝缘层上镀金属膜；采用负性光刻胶对所述金属膜进行光刻；对光刻后的所述金属膜进行蚀刻，以便在第二方向将所述基准图形阵列连通。
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