[发明专利]一种电容式触摸屏架桥结构制作方法有效
| 申请号： | 201210299478.X | 申请日： | 2012-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN102855039A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 汪敏洁;蔡汉业;朱景河;何基强 | 申请（专利权）人： | 信利半导体有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 516600 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电容 触摸屏 架桥 结构 制作方法 | ||
1.一种电容式触摸屏架桥结构制作方法，其特征在于，包括：
在纳米铟锡金属氧化物ITO上，制作出在第一方向相互连通的基准图形阵列，在垂直于所述第一方向的第二方向上，制作出相互隔断的基准图形阵列；
在第二方向上的基准图形阵列的相互隔断的区域设置绝缘层；
在所述绝缘层上镀金属膜；
采用负性光刻胶对所述金属膜进行光刻；
对光刻后的所述金属膜进行蚀刻，以便在第二方向将所述基准图形阵列连通。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用负性光刻胶对所述金属膜进行光刻，包括：
在待蚀刻金属层上涂负性光刻胶；
在掩模板的遮挡下，对负性光刻胶涂层进行曝光；
将负性光刻胶涂层上的未曝光的可溶解区域用化学显影剂溶解；
对曝光后的未溶解的负性光刻胶涂层进行主固化。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述在待蚀刻金属层上涂负性光刻胶之前，还包括：
清洗上一工序残留的光刻胶。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基准图形阵列为菱形阵列。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用负性光刻胶对所述金属膜进行光刻，包括：采用OC胶对所述金属膜进行光刻。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在第二方向上的基准图形阵列的相互隔断的区域设置绝缘层，包括：
在所述基准图形阵列的第二方向上的相互隔断的区域涂抹负性光刻胶，将曝光后固化的所述负性光刻胶，作为绝缘层。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，在所述基准图形阵列的第二方向上的相互隔断的区域涂抹的负性光刻胶为OC胶。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述绝缘层上镀金属膜，包括：在所述绝缘层上镀包含钼铝钼成分的金属膜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利半导体有限公司，未经信利半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210299478.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：分布式全景监控系统及其方法
- 下一篇：翻爆式紧固螺丝及其防滑膨胀螺套
