[发明专利]等离子体控制装置、流量控制装置及流量控制用方法在审
| 申请号： | 201210297388.7 | 申请日： | 2012-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN103014637A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 绀野象二郎;南新吾;水口秀 | 申请（专利权）人： | 株式会社堀场STEC |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 周善来;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供等离子体控制装置、流量控制装置及流量控制用方法，即使应导入真空室内的导入气体的流量值大，也能在所述流量值附近的狭窄区间内高速地控制流量，例如能将真空室内的等离子体持续保持在所希望的状态，能维持用于成膜等的最佳状态。等离子体控制装置包括：第一阀，设在第一流路上，导入真空室内的导入气体流过第一流路；第一阀控制部，控制第一阀的开度，使得经由第一阀导入真空室内的导入气体的流量成为第一流量；等离子体监测器；第二阀，设于导入气体流过的第二流路上；第二阀控制部，根据由等离子体监测器测量到的测量等离子体强度与预先设定的设定等离子体强度的偏差，对第二阀的开度进行控制。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 控制 装置 流量 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体控制装置，其特征在于包括：第一阀，设置在第一流路上，所述第一流路与生成等离子体的真空室连接，导入所述真空室内的导入气体流过所述第一流路；第一阀控制部，控制所述第一阀的开度，使得经由所述第一阀导入所述真空室内的所述导入气体的流量成为第一流量；等离子体监测器，测量在所述真空室内生成的等离子体的等离子体强度；第二阀，设置在第二流路上，所述第二流路与比所述第一阀位于下游的所述第一流路连接或者与所述真空室连接，所述导入气体流过所述第二流路；以及第二阀控制部，根据由所述等离子体监测器测量到的测量等离子体强度与预先设定的设定等离子体强度的偏差，对所述第二阀的开度进行控制。
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