[发明专利]平面光学元件面形的检测方法

摘要

一种用于反射率>13%的平面光学元件面形的检测方法，该检测方法所使用工具包括：斐索干涉仪、两块4%反射率的平面标准镜、一块4%～13%反射率的平面标准镜、一块透射率介于0.30～0.36之间的反射式或吸收式的衰减片。该检测方法首先对4%反射率、4%反射率和4%～13%反射率的三块标准镜进行绝对检验，得到4%～13%反射率平面标准镜的绝对面形；其次在干涉腔内插入衰减片，对4%～13%反射率的平面标准镜进行相对检验，计算出干涉仪系统误差；最后对待测元件进行相对检验，扣除系统误差，得到待测元件的绝对面形分布。本发明对反射率>13%的平面光学元件面形检测具有较高的检测精度。

主权项

一种用于反射率>13%的平面光学元件面形的检测方法，该检测方法所使用工具包括斐索干涉仪（1），第一标准镜（2），反射率4%，第二标准镜（3），反射率4%，第三标准镜（4），反射率的选择范围为4%～13%，一块衰减片（5），透射率介于0.30～0.36之间，其特征在于：该方法包括以下步骤：①利用所述的斐索干涉仪（1），采用现有的绝对检验法对第一标准镜（2）、第二标准镜（3）和第三标准镜（4）进行绝对检验，得到第三标准镜（4）的绝对面形分布C(x,y)并存储；②测量斐索干涉仪的系统误差：将第一标准镜（2）装夹在所述的斐索干涉仪（1）的参考镜调整架上，将所述的第三标准镜（4）装夹在斐索干涉仪（1）的待测镜调整架上，在第一标准镜（2）和第三标准镜（4）之间插入所述的衰减片（5），该衰减片（5）与所述的第一标准镜（2）的倾角<1°，利用所述的斐索干涉仪（1）测量第三标准镜（4）的波面数据W0(x,y)并存储，所述的斐索干涉仪（1）按下列公式计算出斐索干涉仪（1）的系统误差Wsys_err：Wsys_err=W0(x，y)‑C(x，y)；③将待测镜调整架上的第三标准镜（4）更换为待测平面光学元件（6），利用斐索干涉仪（1）测量待测平面光学元件（6）波面数据W1(x,y)并存储；④所述的斐索干涉仪（1）利用下列公式计算出待测平面光学元件（6）的绝对面形分布Wtest(x，y)：Wtest(x，y)=W1(x，y)‑Wsys_err=W1(x，y)‑[W0(x，y)‑C(x，y)]。