[发明专利]平面光学元件面形的检测方法有效

专利信息
申请号: 201210289617.0 申请日: 2012-08-15
公开(公告)号: CN102818534A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 张敏;唐锋;王向朝;戴凤剑 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 平面 光学 元件 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种用于反射率>13%的平面光学元件面形的检测方法,该检测方法所使用工具包括斐索干涉仪(1),第一标准镜(2),反射率4%,第二标准镜(3),反射率4%,第三标准镜(4),反射率的选择范围为4%~13%,一块衰减片(5),透射率介于0.30~0.36之间,其特征在于:该方法包括以下步骤:

①利用所述的斐索干涉仪(1),采用现有的绝对检验法对第一标准镜(2)、第二标准镜(3)和第三标准镜(4)进行绝对检验,得到第三标准镜(4)的绝对面形分布C(x,y)并存储;

②测量斐索干涉仪的系统误差:将第一标准镜(2)装夹在所述的斐索干涉仪(1)的参考镜调整架上,将所述的第三标准镜(4)装夹在斐索干涉仪(1)的待测镜调整架上,在第一标准镜(2)和第三标准镜(4)之间插入所述的衰减片(5),该衰减片(5)与所述的第一标准镜(2)的倾角<1°,利用所述的斐索干涉仪(1)测量第三标准镜(4)的波面数据W0(x,y)并存储,所述的斐索干涉仪(1)按下列公式计算出斐索干涉仪(1)的系统误差Wsys_err

Wsys_err=W0(x,y)-C(x,y);

③将待测镜调整架上的第三标准镜(4)更换为待测平面光学元件(6),利用斐索干涉仪(1)测量待测平面光学元件(6)波面数据W1(x,y)并存储;

④所述的斐索干涉仪(1)利用下列公式计算出待测平面光学元件(6)的绝对面形分布Wtest(x,y):

Wtest(x,y)=W1(x,y)-Wsys_err=W1(x,y)-[W0(x,y)-C(x,y)]。

2.根据权利要求1所述的平面光学元件面形的检测方法,其特征在于所述的绝对检验方法为奇偶函数法、旋转对称法或镜面对称法。

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