[发明专利]InGaN/Si双结太阳能电池有效
申请号: | 201210246805.5 | 申请日: | 2012-07-17 |
公开(公告)号: | CN102751368A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 张启明;王帅;高鹏;王保民;刘如彬;孙强;穆杰 | 申请(专利权)人: | 天津蓝天太阳科技有限公司;中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | H01L31/0687 | 分类号: | H01L31/0687;H01L31/0224 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300384 天津市西*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种InGaN/Si双结太阳能电池,包括n-Si衬底,其上面依次有AlN成核层、GaN缓冲层、n-InxGa1-xN层、p-InxGa1-xN层、正电极,其特点是:成核层和衬底之间有p-Si层,与n-Si衬底形成Si底电池;p-InxGa1-xN层上面蒸镀有半透明电流扩展层;负电极蒸镀于n-Si衬底下面。本发明由于在n-Si衬底和AlN成核层之间形成了p-Si层,与n-Si衬底形成了Si底电池,易于制备、电池的总转换效率高;通过蒸镀半透明电流扩展层,抗辐射能力强,电池的使用寿命长;负电极蒸镀于n-Si衬底下面,简化了工艺,降低了成本,还可当反射镜使用,进一步提高了电池的总转换效率。 | ||
搜索关键词: | ingan si 太阳能电池 | ||
【主权项】:
一种InGaN/Si双结太阳能电池,包括n‑Si衬底,n‑Si衬底上面自下至上依次有AlN成核层、GaN缓冲层、Si掺杂的n‑InxGa1‑xN层、Mg掺杂的p‑InxGa1‑xN层和正电极负电极,其特征在于:所述AlN成核层和n‑Si衬底之间制有p‑Si层,p‑Si层与n‑Si衬底形成Si底电池;所述Mg掺杂的p‑InxGa1‑xN层上面蒸镀有半透明电流扩展层;负电极蒸镀于n‑Si衬底的下面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的