[发明专利]InGaN/Si双结太阳能电池有效

专利信息
申请号: 201210246805.5 申请日: 2012-07-17
公开(公告)号: CN102751368A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 张启明;王帅;高鹏;王保民;刘如彬;孙强;穆杰 申请(专利权)人: 天津蓝天太阳科技有限公司;中国电子科技集团公司第十八研究所
主分类号: H01L31/0687 分类号: H01L31/0687;H01L31/0224
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 李凤
地址: 300384 天津市西*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: ingan si 太阳能电池
【权利要求书】:

1.一种InGaN/Si双结太阳能电池,包括n-Si衬底,n-Si衬底上面自下至上依次有AlN成核层、GaN缓冲层、Si掺杂的n-InxGa1-xN层、Mg掺杂的p-InxGa1-xN层和正电极负电极,其特征在于:所述AlN成核层和n-Si衬底之间制有p-Si层,p-Si层与n-Si衬底形成Si底电池;所述Mg掺杂的p-InxGa1-xN层上面蒸镀有半透明电流扩展层;负电极蒸镀于n-Si衬底的下面。

2.根据权利要求1所述的InGaN/Si双结太阳能电池,其特征在于:所述的半透明电流扩展层为ITO薄膜;半透明电流扩展层上光刻出正电极区域,半透明电流扩展层的其余部分被光刻胶保护形成保护区;所述正电极蒸镀于正电极区域。

3.根据权利要求1或2所述的InGaN/Si双结太阳能电池,其特征在于:所述正电极为自下至上蒸镀成一体、厚度为20nm/60nm的Ni/Au电极。

4.根据权利要求1所述的InGaN/Si双结太阳能电池,其特征在于:所述负电极为自上至下蒸镀成一体、厚度为15nm/15nm/400nm的Ti/Pd/Ag电极。

5.根据权利要求2所述的InGaN/Si双结太阳能电池,其特征在于:所述正电极区域的深度为50-100nm。

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